推出 Uno Platform 5.0：通过新的增强功能将生产力提高五倍

开源Uno Platform背后的开发人员已推出其最新版本 – Uno Platform 5.0。在他们博客上的一篇文章中，他们宣布了许多新增内容，预计将极大地影响生产力。整个公告中呼应的一句话是“5 代表 5 倍的生产力”。

Uno 平台以其作为开发 .NET 应用程序的多功能框架而自豪，这些应用程序能够通过统一的代码库在多个平台上运行。

Uno Platform 5.0 版本的亮点是 C# 标记的引入。开发人员对该功能的需求很高，因为它可以仅使用 C# 语言构建综合应用程序。 Uno Platform Team在他们的博客上指出：“我们从社区收到的重要反馈之一是必须熟悉多种语言才能在 Uno 平台上创建应用程序。”

C# 标记与标准 WinUI、Uno.Toolkit 和 Uno.Extensions 控件兼容。开发人员还可以灵活地使用 C# 标记支持生成器进行任何第三方控制集成。 C# 标记与数据绑定、样式、资源、模板和视觉状态等功能捆绑在一起，提高了开发人员的工作效率和灵活性。

此添加的主要好处之一是它允许以声明方式创建应用程序 UI，并保持 UI 和内在业务逻辑之间的透明隔离。

此外，Uno 平台团队还开发了一个名为“Figma to C# Markup”的新插件。它从 Figma-to-XAML 插件中汲取灵感，旨在进一步提高应用程序开发的生产力和易用性。

此外，最新版本还引入了对 MVUX 扩展的多项更新，本质上是执行模型-视图-更新设计模式。此更新的一项令人印象深刻的功能是它能够更有效地利用“热重载”功能。这种增强的利用率允许开发人员修改代码并运行它，而无需暂停或重建应用程序。因此，无需重新启动应用程序即可更改模型和视图。

为了帮助学习和使用“热重载”，团队设计了一个深入的课程。这个实践研讨会使用一个简单的计算器，说明了如何利用此功能。另外一个研讨会提供了有关开发可跨各种平台部署的 YouTube 视频流应用程序的指导，同时强调了 MVUX 的优势。

Uno Platform 5.0 中的其他显着增强包括适用于 iOS 的 MP4 相机捕捉、增强的对 Skia 目标的合成支持以及改进的 DPI 缩放和 GTK 的主题支持。

有趣的是，Uno Platform 5.0 提供的功能反映了AppMaster平台所拥有的许多功能。作为一个强大的no-code工具， AppMaster 允许您直观地创建数据模型、业务逻辑以及 REST API 和 WSS endpoints ，甚至在集成第三方控件时也是如此。因此，这两个平台都为后端、网络和移动应用程序的开发带来了一场革命。通过弥合多种语言和平台之间的差距，它们无疑是未来的工具。