Onthulling Uno Platform 5.0: gericht op vervijfvoudigde productiviteit met nieuwe verbeteringen

De ontwikkelaars achter het open-source Uno Platform hebben de nieuwste versie gelanceerd: Uno Platform 5.0. In een bericht op hun blog hebben ze een groot aantal toevoegingen aangekondigd die naar verwachting een enorme impact op de productiviteit zullen hebben. De uitspraak die door de hele aankondiging heen galmt, is '5 staat voor 5x productiviteit'.

Het Uno Platform is er trots op een veelzijdig raamwerk te zijn voor de ontwikkeling van .NET-applicaties die op meerdere platforms kunnen draaien vanuit een uniforme codebase.

Het hoogtepunt van de release Uno Platform 5.0 is de introductie van C# Markup. Er was veel vraag naar deze functie bij ontwikkelaars, omdat het de constructie van een uitgebreide applicatie mogelijk maakt met alleen de C#-taal. Het Uno Platform Team merkte op hun blog op: 'Een van de belangrijkste feedback die we van de gemeenschap hebben ontvangen, is de noodzaak om vertrouwd te raken met meerdere talen om een ​​applicatie op het Uno-platform te maken.'

C# Markup is compatibel met standaard WinUI-, Uno.Toolkit- en Uno.Extensions-besturingselementen. Ontwikkelaars hebben ook de flexibiliteit om de C# Markup-ondersteuningsgenerator te gebruiken voor besturingsintegratie van derden. Gebundeld met mogelijkheden zoals databinding, stijlen, bronnen, sjablonen en visuele statussen, vergroot C# Markup de productiviteit en flexibiliteit voor ontwikkelaars.

Een van de belangrijkste voordelen van deze toevoeging is dat het de creatie van app-UI’s op een declaratieve manier mogelijk maakt en een transparante scheiding tussen de UI en de intrinsieke bedrijfslogica handhaaft.

Ook is er een nieuwe plug-in genaamd 'Figma to C# Markup' ontwikkeld door het Uno Platform Team. Geïnspireerd door de Figma-to-XAML-plug-in, is het ontworpen om de productiviteit en het gemak van app-ontwikkeling verder te verbeteren.

Bovendien introduceert de nieuwste versie verschillende updates voor de MVUX-extensie, waarbij in wezen het Model-View-Update-ontwerppatroon wordt uitgevoerd. Een indrukwekkend kenmerk van deze update is de mogelijkheid om de 'Hot Reload'-functie efficiënter te benutten. Dankzij dit verbeterde gebruik kunnen ontwikkelaars de code aanpassen en uitvoeren zonder de noodzaak om de applicatie te onderbreken of opnieuw op te bouwen. Hierdoor kunnen wijzigingen in Model en Weergave worden doorgevoerd zonder dat de app opnieuw hoeft te worden opgestart.

Om te helpen bij het leren en gebruiken van 'Hot Reload' heeft het team een ​​diepgaande cursus ontworpen. Deze praktische workshop werkt aan een eenvoudige rekenmachine en illustreert hoe u deze functie kunt benutten. Een extra workshop biedt begeleiding bij het ontwikkelen van een app voor het streamen van YouTube-video's die op verschillende platforms kan worden ingezet, waarbij tegelijkertijd de voordelen van MVUX worden benadrukt.

Andere opmerkelijke verbeteringen in het Uno Platform 5.0 zijn onder meer een MP4-camera-opname voor iOS, verbeterde compositieondersteuning voor Skia-doelen en verbeterde DPI-schaling en thema-ondersteuning voor GTK.

Interessant genoeg weerspiegelen de functies van Uno Platform 5.0 veel van de mogelijkheden van het AppMaster platform. Als krachtige tool no-code kunt u met AppMaster visueel datamodellen, bedrijfslogica en REST API- en WSS- endpoints creëren, zelfs terwijl u controles van derden integreert. Beide platforms zorgen dus voor een revolutie in de ontwikkeling van backend-, web- en mobiele applicaties. Door de kloof tussen meerdere talen en platforms te overbruggen, zijn dit zeker de instrumenten van de toekomst.